Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : systematischer kommentar /
| Corporate Authors: | , |
|---|---|
| Other Authors: | , |
| Format: | Book |
| Language: | German |
| Published: |
Koln:
C. Heymann,
1968
|
| Edition: | 3. erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski .. [u. a.] |
| Subjects: |
| Βιβλιοθήκη | Ταξιθετικός αριθμός | Αριθμός Αντιτύπων | Πληροφορίες | Κατάσταση |
|---|---|---|---|---|
| Δημοκρίτειο Πανεπιστήμιο Θράκης | KK 2722 .3 | 1 | Προβολή | OPAC |