Nastelski, K., & Reimer, E. (1968). Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer kommentar (3. erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski .. [u. a.].). Koln: C. Heymann.
Chicago Style CitationNastelski, Karl, and Eduard Reimer. Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar. 3. erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski .. [u. a.]. Koln: C. Heymann, 1968.
MLA CitationNastelski, Karl, and Eduard Reimer. Patentgesetz Und Gebrauchsmustergesetz: Systematischer Kommentar. 3. erw. Aufl., neu bearb. von Karl Nastelski .. [u. a.]. Koln: C. Heymann, 1968.
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