Holdings: Patterning of material layers in submicron region/

Main Author:	Tandon, U. S., 1952-
Corporate Author:	Wiley
Other Authors:	Khokle, W. S.
Format:	Book
Language:	English
Published:	New York: J. Wiley, 1993
Subjects:	Integrated circuits > Masks Ion beam lithography Lithography, Electron beam

Βιβλιοθήκη	Ταξιθετικός αριθμός	Αριθμός Αντιτύπων	Πληροφορίες	Κατάσταση
Δημοκρίτειο Πανεπιστήμιο Θράκης	TK 7872	1	Προβολή	OPAC