Ανάπτυξη λεπτών υμενίων βολφραμίου (W) με τη μεθοδο της χημικής εναπόθεσης από ατμό υπό ελαττωμένη πίεση (ΕΠΧΕΑ - LPCVD), με πυρόλυση ατμών W(CO)6 : εφαρμογές των υμενίων αυτών στην κατασκευή ανορθωτικών επαφών : W - Si και διόδων MOS : W - SiO2 - Si /
Main Author: | Μουτσάκης, Αντώνης |
---|---|
Corporate Authors: | Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο. Σχολή Ηλεκτρολόγων Μηχανικών και Μηχανικών Υπολογιστών., Τομέας Ηλεκτρομαγνητικών Εφαρμογών, Ηλεκτροοπτικής και Ηλεκτρονικών Υλικών |
Other Authors: | Τσαμάκης, Δημήτρης Μ |
Format: | Book |
Similar Items
-
Κατασκευή διόδων MOS χρησιμοποιώντας στις μεταλλικές διασυνδέσεις στρώματα βολφραμίου (W) και στρώματα βολφραμίου-χαλκού (W-Cu)/
by: Χριστοφόρου, Φλώρα
Published: (2002) -
w.w.w.ΔΑSOS.gr /
by: Καραλάζου, Θωμαή
Published: (2003) -
Antiken der Sammlung W.W.: vii gemmen/
by: Stupperich, Reinhard, 1951-
Published: (1986) -
W.C.
by: Ντάβας, Νικόλαος (1969- )
Published: (1999) -
W. S. Merwin /
by: Davis, Cheri, 1944-
Published: (1981)