Κατασκευή διόδων MOS χρησιμοποιώντας στις μεταλλικές διασυνδέσεις στρώματα βολφραμίου (W) και στρώματα βολφραμίου-χαλκού (W-Cu)/
Main Author: | Χριστοφόρου, Φλώρα |
---|---|
Corporate Authors: | Εθνικό και Καποδιστριακό Πανεπιστήμιο Αθηνών. Σχολή Θετικών Επιστημών., Τμήμα Πληροφορικής και Τηλεπικοινωνιών |
Format: | Book |
Language: | Greek |
Published: |
Αθήνα:
[χ.ό.],
2002
|
Subjects: |
Similar Items
-
Κατασκευή διατάξεων MOS επιμετάλλωσης βολφραμίου ή βολφραμίου/χαλκού : χαρακτηρισμός MOS και TFTs /
by: Νίκας, Αναστάσιος
Published: (2004) -
Μελέτη της προσρόφησης πρωτείνών σε στρώματα τριοξειδίου του βολφραμίου (WO3)/
by: Ασημακόπουλος, Βασίλης
Published: (2005) -
Εναπόθεση υμενίων βολφραμίου / χαλκού (W / Cu ) πάνω σε οξείδιο L.T.O. υπό διάφορες συνθήκες και έλεγχος του βαθμού κάλυψης της επιφάνειας του οξειδίου (step coverage)/
by: Ρένεσης, Διονύσιος Π.
Published: (2006) -
Μελέτη λεπτών οξειδίων Si για εφαρμογή σε χωρητικότητες MOS/
by: Σαλωνίδου, Αθήνα
Published: (2003) -
ʹΕνα νέο τρανζίστορ βασισμένο στο υποξείδιο του χαλκού (Cu2O)/
by: Παπαδημητρόπουλος, Γεώργιος Δ.
Published: (2004)